2012年10月11日[置顶][原创]图片批量添加去除白边工具v1.1

2009年11月2日DLC薄膜过渡层制备的一些资料总结

1、参考文献:射频溅射Si膜的微结构与光学性质研究(宋学萍)

薄膜的制备
实验用JGP560Ⅰ型超高真空磁控溅射仪制备不同厚度的Si薄膜,膜厚由溅射时间控制。Si靶的纯度为99. 99%。镀膜前,所有用于制备Si膜的基片经过超声波清洗处理,真空烘干后置于干燥缸内备用。
当真空室本底真空度达到6. 0 ×10 - 4 Pa后,充入高纯Ar (99. 999% )作为溅射气体。溅射时工作气压为0. 7 Pa,溅射功率为60W,溅射时间分别为20、30、40、50和60 min。衬底温度为300 ℃。
...

分类:材料科学  标签:过渡层  DLC  类金刚石  薄膜    网友评论0条  已浏览loading

«1»